原裝HORIBA堀場等離子發(fā)射控制器RU-1000

原裝HORIBA堀場等離子發(fā)射控制器RU-1000

等離子發(fā)射控制器RU-1000使用傳感器檢測等離子發(fā)射強度，并使用算法向內部制造的高速響應質量流量控制器指示適當的反應氣體流量，從而使成膜速度接近于金屬模式并實現(xiàn)穩(wěn)定的成膜。

等離子發(fā)射控制器RU-1000用于提高沉積速度。通過控制過渡區(qū)的反應氣體，與定量供給反應氣體的方法相比，成膜速度可以提高數倍。

通過將多個等離子體發(fā)射強度傳感器安裝到寬幅基板上并利用這些信號高速控制反應氣體，可以實現(xiàn)極其均勻的成膜。

等離子發(fā)射控制器RU-1000是一款售后服務優(yōu)良的國產產品，由專門從事光學技術的Horiba和擁有優(yōu)秀氣體控制技術的Horiba Estec生產。

制造商特點

在生產等離子體發(fā)射控制器時，HORIBA, Ltd.負責測量等離子體發(fā)射強度的基本光學設計，HORIBA STEC, Ltd.負責控制反應氣體流量的功能部分的設計。高速。堀場制作所是汽車尾氣分析儀、薄膜測量、理化分析領域的頂尖公司，而這些分析技術的基本原理是光學測量技術，因此等離子體發(fā)光測量是由日本堀場制作所進行的。該領域的頂尖公司。另一方面，反應氣體流量的控制部分由全球半導體制造設備中質量流量控制器（氣體流量控制裝置）的制造商負責。等離子發(fā)射控制器 RU-1000 匯集了堀場集團的最佳技術，迎接將技術推向更高高度的挑戰(zhàn)。

對于要求演示的客戶

在本公司，我們出租控制器和等離子測量裝置等系統(tǒng)，以便與客戶的系統(tǒng)相匹配，讓客戶放心使用。

對于給您帶來的不便，我們深表歉意，但請單擊下面的圖標并輸入所需的信息。

我們的代表將確認您所需的日期和所需的系統(tǒng)。